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硅片清洗废水处理设备工艺流程描述

云顶娱乐官方网站污水处理设备 编辑:污水处理设备 时间:2019-06-26 12:09:48

   半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物,这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面,会导致各种缺陷。全自动硅片清洗机对硅片进行清洗之后会产生废水,现有的废水处理装置内未设置保护装置,将废水排进废水处理装置过程中,由于水流冲击过大,会对过滤板造成冲击,经过长时间使用有可能造成过滤板损坏,导致废水处理设备无法正常使用,因此,大家硅片清洗废水处理设备厂家设计了一种全自动硅片清洗的废水处理装置用来解决过滤板损坏的问题。

 

  硅片清洗废水处理设备工艺流程描述:

  生产废水与经化粪池处理后的生活废水混合进入格栅,去除废水中的大颗粒废物,如塑料袋、手套、硅片等。废水进入调节池进行水质、水量调节,经泵提升到混凝反应池,在反应池中加入氢氧化钠和聚合氯化铝,将废水pH调至8~9,使水中颗粒物发生絮凝反应,流入沉淀池进行沉淀。沉淀上清液流入中间水池,经提升泵打入UASB厌氧反应器,进水从反应器底部流入与污泥混合,污泥中的微生物分解水中的有机物并产生沼气,泥水气混合物经三相分离器进行分离,污泥沉淀到反应器底部,沼气进入气室经导气管引出,反应器出水经上部堰板溢出流入厌氧沉淀池,将水中少量厌氧污泥沉淀后流入缺氧-好氧处理系统,对水中剩余的有机物进一步处理。经好氧处理后的污水流入二沉池,对水中的污泥进行沉淀分离,出水排放,部分污泥回流到缺氧池,剩余污泥排入污泥浓缩池。

  调节池、混凝沉淀池、厌氧沉淀池和二沉池产生的污泥排入污泥浓缩池,经离心机脱水后泥饼外运,水流入调节池,再回到污水处理系统。

  大家硅片清洗废水处理设备厂家生产的全自动硅片清洗机的废水处理装置,涉及废水处理技术领域,该全自动硅片清洗机的废水处理装置,包括处理箱,所述处理箱的两侧内壁上端均固定连接有固定板,两个所述固定板的上方均设置有缓冲板,所述缓冲板的下表面一端固定连接斜块的上表面,所述斜块的下表面固定连接第一竖杆的一端,所述第一竖杆的上端外侧套接有压板,所述第一竖杆的外侧套接有复位弹簧,所述缓冲板的下表面另一端固定连接第二竖杆的顶端。该全自动硅片清洗机的废水处理装置,通过缓冲板和复位弹簧的配合设置,能够对水流进行缓冲,减小水流对过滤板的冲击,有效的保护了过滤板,从而能够提升过滤板的使用寿命。

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